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磁控濺射真空鍍膜設備

瀏覽:584    日期:2019-05-20

詳細參數
 主要參數:
真空室尺寸 ZCK-1200,ZCK-1400,ZCK-1600,ZCK-1800  
真空系統 旋片泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選分子泵、深冷泵、深冷系統)
 
極限真空 6×10-4Pa
抽氣時間 空載大氣抽至5×10-3Pa,>13min
真空鍍膜設備的具體配置可根據客戶的鍍膜工藝要求進行量身設計及制作
 
產品介紹:
      磁控濺射鍍膜機應用于塑料制品、陶瓷大卫娱乐、樹脂大卫娱乐、水晶玻璃制品等大卫娱乐、工藝品大卫娱乐、塑料手機殼大卫娱乐、電子產品、建材等行業。
該系列設備主要是使用直流(或中頻)磁控濺射,可適應廣泛鍍膜靶材,如:銅、鈦、鉻、不繡鋼大卫娱乐、鎳等金屬材料,
可以利用濺射工藝進行鍍膜,可提高膜層的附著力大卫娱乐、重復性大卫娱乐大卫娱乐、致密度、均勻度等特點。
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